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      光催化原理和應用技術

      發布時間:2018-06-21 11:00??文章來源:www.cwgfz.com??文章作者:高級氧化技術工程

        光催化原理

        半導體光催化劑大多是n型半導體材料(當前以為TiO2使用廣泛)都具有區別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在價帶和導帶之間存在一個禁帶。由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。

      光催化

        光催化應用技術

        利用光催化凈化技術去除空氣中的有機污染物具有以下特點:

        1、直接用空氣中的氧氣做氧化劑,反應條件溫和(常溫 常壓)。

        2、可以將有機污染物分解為二氧化碳和水等無機小分子,凈化效果徹底。

        3、半導體光催化劑化學性質穩定,氧化還原性強,成本低,不存在吸附飽和現象,使用壽命長。光催化氧化技術具有室溫深度氧,二次污染小,運行成本低和可望利用太陽光為反應光源等優點,所以光催化特別合適室內揮發有機物的凈化,在深度凈化方面顯示出了巨大的應用潛力。

        常見的光催化劑多為金屬氧化物和硫化物,如Tio2, ZnO,CdS,WO3等,其中Tio2的綜合性能好,應用廣。自1972年Fujishima和Honda發現在受輻照的Tio2上可以持續發生水的氧化還原反應,并產生H2以來,人們對這一催化反應過程進行了大量研究。結果表明,Tio2具有良好的抗光腐蝕性和催化活性,而且性能穩定,價廉易得,無毒無害,是目前公認的較佳光催化劑。該項技術不僅在廢水凈化處理方面具有巨大潛力,在空氣凈化方面同樣具有廣闊的應用前景。

        德蘭梅勒專業提供電化學高級氧化技術、濕式氧化技術、光催化氧化技術、臭氧催化氧化技術、UV聯合工藝氧化技術、高級生物氧化技術,技術廣泛應用于工業有機廢水處理、抗生素制藥廢水、含氰廢水處理及其他水處理除氧工藝流程的應用。

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