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      光催化氧化法設備的原理和性能綜述

      發布時間:2018-06-21 16:22??文章來源:www.cwgfz.com??文章作者:高級氧化技術工程

        光催化氧化法原理:

        一、光催化氧化法設備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等。

        二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。

        UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

        三、惡臭氣體利用排風設備輸入到本光催化氧化法設備后,運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。

        四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應,徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。


      光化學氧化法

        光催化氧化法性能綜述

        一、光催化氧化法設備高效除惡臭:能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率可達99.9%以上,脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93).

        二、光催化氧化法設備無需添加任何物質:只需要設置相應的排風管道和排風動力,使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加任何物質參與化學反應。

        三、光催化氧化法設備適應性強:可適應高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可靠。

        四、光催化氧化法設備運行成本低:本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設備能耗低,只需電費,沒有其他耗材。

        德蘭梅勒致力研發生產的光化學光源用于光催化、光降解、非均相光催化等光化學領域,完善的售后服務,是國內具實力的光催化氧化法技術研發及服務商。光氧化法均以紫外光為輻射源,同時水中需預先投入一定量氧化劑如過氧化氫,臭氧或一些催化劑,如染料、腐殖質等。它對難降解而具有毒性的小分子有機物去除效果極佳,光氧化反應使水中產生許多活性極高的自由基,這些自由基很容易破壞有機物結構。

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