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      光電催化氧化技術的基本原理

      發布時間:2018-01-30 14:52??文章來源:www.cwgfz.com??文章作者:高級氧化技術工程

        光電催化氧化技術——光電化學效應(1839年E.Becquerel)1955年根據鍺電極試驗得出的結果指出,Becquerel效應是由于生成半導體-電解液結的關系,從而產生了利用照射置于電解槽中半導體電極生產化學品或電極的概念,1972年,利用n型半導體TiO2將水在比H2O/O2對的標準氧化電位負的多的情況下生產O2獲得成功之后,引起人們廣泛關注。

        光電催化氧化技術的基本原理:

        光電催化氧化技術——光催化和電催化反應的特例,同時具有光、電催化反應的特點。是在光照條件下在具有不同類型(電子和離子)電導的兩個導電體的界面上進行的一種催化過程。

        具有光催化的特點:光化學氧化法應用產生新的可移動的載流子(具有更高的氧化或還原能力),伴隨著電流的流動。

        光電化學過程:光能、電能或化學能之間的轉化根據光激發起始步驟的不同。

        分為兩類:電極(催化劑)的光激發引起:半導體電極和金屬電極半導體電極:近表面區形成一個空間電荷層,有可能參與電極/電解液界面的電化學反應。
       

      光電催化氧化設備
       

        電解液(反應物)的光激發引起:

        近電極層中的物質,尤其是在表面上吸附的物質才能參與所討論的光電化學電極過程。通常所說的光電催化技術是指一種光催化與電化學聯用的新型高級氧化技術。主要是通過固定化技術將半導體光催化負載在導體基體上制成工作電極,同時在工作電極上施加偏電壓,從而在電極內部形成一個電勢梯度,促進因電極光激發產生的光電子和空穴向相反方向移動,抑制了它們的負荷,以加速分離。

        優點:

        (1)將電子還原過程和空穴氧化過程從空間位置分開,增加了HO·的生成效率,阻止了氧化產物在陰極上的再還原。

        (2)不需要向系統內鼓入氧氣(空氣)作為氧化劑,降低了LOGO動力消耗。

        光電催化氧化技術在難降解水中污染物的過程:借助于外加電壓移去光陽極上的光生電子,減少光生電子和光生空穴發生簡單復合的幾率,通過提高量子化效率達到提高光催化氧化效率的目的。

        德蘭梅勒專業提供電化學高級氧化技術、濕式氧化技術、光催化氧化技術、臭氧催化氧化技術、UV聯合工藝氧化技術、高級生物氧化技術,技術廣泛應用于工業有機廢水處理、抗生素制藥廢水、含氰廢水處理及其他水處理除氧工藝流程的應用。

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